主要应用
  • FIB/SEM/TEM/Nano Probe
  • XPS/GC/SIMS
  • Synchrotron Radiation
  • 各类真空腔体清洗
  • 各类分析设备样品清洗
卓越的分辨率

Magnificent resolution

多功能等离子清洗仪

MIPC1000多功能等离子清洗仪,专门针对SEM/TEM等各类表面/微观分析设备开发,能够有效去除样品/样品杆表面污染物,防止碳沉积带来图像分辨率降低及对样品微区成分分析造成误判,同时可改善样品表面亲水性。
该系统配备7英寸超大清洗样品杆,同时清洗多个样品,利用快旋头设计,可满足SEM/FIB/EPMA/SIMS/XPS/TEM等各类真空腔体清洗,提升仪器分析准确性
最多可配备四路气体进气系统,搭配高精度质量流量计(MFC),可实现任意比例气体混合,从而实现不同工艺气体清洗需求。通过配备的7英寸触屏控制系统,能够实现清洗配方的建立和存储,可实现一键完成样品清洗。
独特的Downstream过滤电场能够过滤传统等离子体中离子/电子成分,仅利用低能自由基进行清洗,能够去除溅射损伤、热效应及刻蚀效应对样品微观结构和成分的破坏。

满足各类真空设备样品/样品舱清洗,同时可对电镜光阑、各类真空部件进行清洗,满足各种清洗需求。

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多功能:

具备在线腔体清洗和独立清洗功能

高效性:

ICP诱导激发,清洗范围广

超高真空清洗:

<5mTor ~ 2Tor

清洗功率范围大:

0-100W

清洗柔和:

Downstream设计,无溅射效应, 无热效应

可同时清洗/存储两根透射电镜样品杆

扩展性好:

采用快旋头,等离子发生器可轻松对各类真空腔体进行清洗

超大清洗样品舱:

直径7英寸X7英寸高

能够碳膜清洗,增加增加碳膜亲水性

触屏控制:

7英寸触屏,配方式操作